基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜 将两层单层CVD石墨烯膜转移 到285nm p掺杂的SiO 2 / Si晶片上 尺寸:1cmx1cm; 8片 将每个石墨烯膜连续转移到晶片上 我们的石墨烯薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制 该产品的石墨烯覆盖率约为98% 石墨烯薄膜是连续的,具有小孔和有机残留物 每个石墨烯薄膜主要是单层(超过95%),偶尔有少量多层(低于5%的双层) 由于没有A-B堆叠
德国2D Next主要提供机械剥离的超大尺寸二维材料,可以提供在众多基底上的转移技术,如二氧化硅,蓝宝石,CVD金刚石等,可用材料包括MoS2,MoSe2,WS2,WSe2等,提供三种尺寸的机械剥离2L/3L材料,分别为50um,75um,100um
超高纯 ZrS2粉末(1g) 纯度:99.9999% 重量:1g 制备方法:使用再提纯后的超高纯 单质高真空密封烧结 用途:用于生长制备二维晶体材料
高纯 ZrSe2粉末(1g) 纯度:99.9995% 重量:1g 制备方法:使用再提纯后的超高纯单质高真空密封烧结 用途:用于生长制备二维晶体材料
超高纯 ZrSe2粉末(1g) 纯度:99.9999% 重量:1g 制备方法:使用再提纯后的超高纯 单质高真空密封烧结 用途:用于生长制备二维晶体材料